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1、真空电镀的镀膜所获得的金属膜层很薄(一般为0.01~0.1um)，能够严格制作出啤件表面的形。

2、真空电镀工作电压不是很高(200V)，操作方便，但设备较昂贵。

3、蒸镀锅瓶容积小，电镀件出数少，生产效率较低。

4、只限于比钨丝熔点低的金属(如铝、银、铜、金等)镀饰。

5、真空电镀对镀件表面质量要求较高﹐通常电镀前需打底油来弥补工件表面缺陷。

6、真空镀膜可以镀多种塑料如﹕ABS、PE、PP、PVC、PA、PMMA等。

塑胶真空电镀,塑胶真空电镀加工,塑胶真空电镀厂双面电镀，也可以简化TSV工艺。在标准的工艺中，通孔是部分地在基板上蚀刻后经过电镀铜填充。通过背面研磨基板暴露出孔的另一端，之后经研磨减薄的基板面形成互连。一种双面工艺可以从采用减薄后的基板开始，蚀刻成穿通基板的通孔，并通过单一的电镀工艺对基板双面填充后形成互连。你都了解了吗？

首先要采用规范的霍尔槽实验设备，本人做也能够，但其尺寸和大小都必需契合规范的请求；

用于实验的镀液要取自待测镀液，液量要准确，且每次所取实验液只能做2片试片，做多了，镀液曾经发作变化，与取样镀液曾经不是同一种配比，所做的结果会有偏向；

阳极一定要规范，厚度不可超越5mm，找不到适宜的阳极时，也能够用不溶性阳极，这时只能镀一片来作为样片；

电镀层的要求：

1、涂层与贱金属之间以及涂层与涂层之间应具有杰出的附着力。

2、涂层应小心结晶，光滑均匀，厚度均匀。

3、涂层应具有规则的厚度和尽可能少的孔隙。

4、涂层应具有规则的目标，如亮度、硬度、电导率等。

镀铬工艺：铬是天蓝色雪白色金属的微带。尽管电极的电位很负，但它有很强的钝化功用，而且在大气中钝化速度快，这说明它具有gui金属性质，因而铁件的铬涂层是阴极涂层。铬层在大气中安稳，并能长期保持其光泽。它在碱、硫化物、碳酸盐和有机酸等腐蚀性介质中十分安稳，但可溶于盐酸和热浓流酸等卤代酸中。